Zusammensetzungsverhältnis: V90W10, V70W30, V50W50, V30W70; beliebig anpassbar
Gängige Spezifikationen: Φ≥20mm, 50–100mm, >100mm; Dicke 2–10mm; Toleranz ±0,1mm; flexible Abmessungen, individuell anpassbar
<b:Theoretische Dichte und Farbe: ≥98%; dunkelgraues bis grau-schwarzes metallisches Glänzen, je höher der Wolframanteil, desto dunkler
Vorteile des Produkts und des Unternehmens
Hohe Reinheit, hohe Dichte, feinkörnige Mikrostruktur, geringe Porosität, gleichmäßiges Sputtern, flexible Abmessungen, anpassbare Zusammensetzungen, strenge Qualitätskontrolle, schnelle Lieferung. Vanadium-Wolfram-Legierungstargets sind aufgrund ihres ultrahohen Schmelzpunkts, ihrer hervorragenden Strahlungsbeständigkeit und ihrer Stabilität bei hohen Temperaturen unverzichtbare Materialien in der Luft- und Raumfahrt, der Kernenergie sowie in der High-End-Elektronik. Durch die Anpassung des Vanadium-Wolfram-Verhältnisses lassen sich vielfältige Anforderungen erfüllen – von leichtem Schutz bis hin zu hochdichter Abschirmung – und so Leistungslücken traditioneller Materialien unter extremen Bedingungen schließen.
Wir verfügen über einen entscheidenden Vorteil bei der Herstellung von Keramiktargen, Refraktärmetalltargen sowie Mehrkomponenten-Metalltargen. Mithilfe der SPS‑Technologie (Spark Plasma Sintering) erreichen wir Reinheitsgrade bis zu 5N mit kontrollierter Kornstruktur, flexiblen Abmessungen und schneller Lieferung, wodurch wir den strengen Anforderungen der wissenschaftlichen Forschung, experimentellen Studien sowie der High-End-Halbleiterchipproduktion gerecht werden. Zudem bieten wir Testdienste für Targetmaterialien an und liefern Ergebnisse innerhalb von 7–15 Tagen, um die Produktiteration und Leistungsvalidierung unserer Kunden zu beschleunigen und die globale Targetmaterialindustrie nachhaltig zu stärken.
Durch den Einsatz weltweit führender Elektronenstrahl-Schmelzverfahren (EB) und des Vakuum-Arc-Umschmelzverfahrens (VAR) gelingt uns eine präzise Reinigung hochschmelzender Metalle, sodass wir maßgeschneiderte Entwicklung ultra-großer Target-Barren (Einzelgewicht: 500 kg–2 t) mit Reinheitsgraden von 99,99% bis 99,999% ermöglichen.
Unser Prüfzentrum ist mit modernsten Analysegeräten wie einem Hitachi-Rasterelektronenmikroskop und ICP‑Spektrometern ausgestattet, die eine lückenlose Überwachung von über 20 Kenngrößen einschließlich Materialzusammensetzung, Korngröße und Dichte ermöglicht und somit eine strenge Qualitätskontrolle gewährleistet.
Serienprodukte
Metalltargen, Keramiktargen, binäre Legierungstargen, ternäre Legierungstargen, Mehrkomponenten-Legierungstargen, Hochentropie-Legierungstargen, hochreine Metallverdampfungsmaterialien, Compound-Granulate, hochreine Targetrohlinge sowie Sprühpulver für Targetanwendungen.
Anwendungsbereiche
Geeignete Verfahren: Magnetron-Sputtern, Arc-Ion-Beschichtung, Elektronenstrahlverdampfung
Hochtemperaturschutz: Beschichtungen für Turbinenschaufeln von Flugzeugtriebwerken; First-Wall-Materialien in Fusionsreaktoren
Strahlenschutz: Abschirmbeschichtungen für medizinische Röntgengeräte; Innenverkleidungen von Behältern für nukleare Abfälle
Verschleiß- und Korrosionsbeständigkeit: Beschichtungen für Schneidwerkzeuge; Innenwände chemischer Reaktoren
Funktionelle Dünnfilme: Diffusionsbarriereschichten für Halbleiter; Substratbeschichtungen für supraleitende Geräte
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