Obiettivo in lega di zirconio-tantalio

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Obiettivo in lega di zirconio e tantalio

Descrizione

Proporzioni di composizione: Zr-10Ta, Zr-20Ta; disponibili composizioni personalizzate

Specifiche comuni: Diametro (Φ): ≥20 mm, 50–100 mm, >100 mm; Spessore (T): 2–10 mm; Tolleranza: ±0,1 mm; Dimensioni flessibili e personalizzabili.

Densità teorica e colore: ≥98%, lucentezza metallica grigio argento

Vantaggi del prodotto e dell’azienda

Elevata purezza, alta densità, dimensione dei grani fine, bassa porosità, sputtering uniforme, dimensioni flessibili, possibilità di personalizzazione della composizione, rigoroso controllo qualità, consegna rapida. I target in lega di zirconio-tantalio rappresentano la scelta principale per i rivestimenti in ambienti estremi, risultando insostituibili soprattutto nei settori aerospaziale, energetico nucleare e dei semiconduttori avanzati. Combinando la resistenza alla corrosione dello zirconio con l’ultra‑alto punto di fusione del tantalio, si ottiene un salto qualitativo senza precedenti. Si prevede che la domanda crescerà ulteriormente con lo sviluppo dei reattori a fusione nucleare e degli aerei ipersonici.

Detiene un vantaggio assoluto nella produzione di target ceramici, target in metalli refrattari e target multicomponente. Grazie alla tecnologia di sinterizzazione SPS, la purezza raggiunge fino a 5N, la dimensione dei grani è controllabile, le dimensioni sono flessibili e la consegna è rapida, soddisfacendo i severi requisiti della ricerca scientifica, degli esperimenti e della produzione di chip semiconduttori di fascia alta. Offre inoltre servizi di collaudo dei materiali per target, con consegne rapide in 7–15 giorni, accelerando l’iterazione dei prodotti e la verifica delle prestazioni dei clienti, contribuendo costantemente allo sviluppo globale dell’industria dei materiali per target.

Utilizza processi all’avanguardia come la Fusione a Raggio Elettronico (EB) e la Rifusione ad Arco Sottovuoto (VAR) per ottenere una purificazione precisa dei metalli ad alto punto di fusione, supportando lo sviluppo su misura di lingotti/billette di target di dimensioni eccezionalmente grandi (peso singolo 500 kg–2 t) con livelli di purezza compresi tra 99,99% e 99,999%.

Il centro di collaudo è dotato di strumenti di analisi avanzati, quali microscopi elettronici a scansione Hitachi e spettrometri ICP, garantendo un monitoraggio completo di oltre 20 parametri, tra cui composizione del materiale, dimensione dei grani e densità, assicurando un rigoroso controllo qualità.

Serie di prodotti

Target metallici, target ceramici, target in leghe binarie, target in leghe ternarie, target in leghe multicomponente, target in leghe ad alta entropia, materiali per evaporazione metallica ad alta purezza, particelle composte, billette di target ad alta purezza, polvere spray per target, ecc.

Applicazioni dei prodotti

Processi compatibili: Sputtering magnetron (DC), Evaporazione a Raggio Elettronico, Placcatura ionica ad arco

Aerospaziale: Rivestimenti termici per palette delle turbine dei motori; Rivestimenti anti-ablazione per ugelli dei razzi

Industria nucleare: Rivestimenti resistenti alle radiazioni per il rivestimento dei combustibili nucleari; Strati sigillanti anticorrosione per contenitori di rifiuti nucleari

Semiconduttori/Elettronica: Strati barriera alla diffusione per interconnessioni in rame dei chip; Pellicole dissipatrici di calore per dispositivi ad alta potenza

<b’Impianti medici: Rivestimenti biocompatibili per articolazioni artificiali

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