Pureté : ≥99,9%, 99,99%, 99,999%
Spécifications courantes : Φ≥20mm, 50–100mm, >100mm ; Épaisseur 2–10mm ; Tolérance ±0,1mm ; Dimensions flexibles, personnalisables.
Densité : ≥98%
Avantages du produit et de l’entreprise
Nous possédons un avantage décisif dans la production de cibles céramiques, de cibles en métaux réfractaires et de cibles métalliques multi-composants. Grâce au frittage haute température SPS, nous atteignons des niveaux de pureté allant jusqu’à 5N, avec une structure granulaire maîtrisée. Notre capacité quotidienne de production pour les petites cibles dépasse 25 pièces, offrant des dimensions flexibles et une livraison rapide, répondant ainsi aux exigences strictes des recherches scientifiques, des études expérimentales et de la fabrication haut de gamme de puces semi-conductrices. Nous proposons également des services d’essais sur les matériaux de cible, fournissant les résultats en 7 à 15 jours afin d’accélérer l’itération des produits et la validation des performances des clients, renforçant ainsi durablement l’industrie mondiale des matériaux de cible.
Grâce aux procédés mondialement reconnus de fusion par faisceau d’électrons (EB) et de refusion sous vide à arc (VAR), nous réalisons une purification précise des métaux à très haut point de fusion, soutenant le développement sur mesure d’ingots de cibles ultra-larges (poids unitaire : 500 kg à 2 tonnes) avec des niveaux de pureté allant de 99,99% à 99,999%.
Notre centre d’inspection est équipé d’instruments de test de pointe tels qu’un microscope électronique à balayage Hitachi (grossissement 50 000x) et des spectromètres ICP, permettant une surveillance complète de plus de 20 paramètres, notamment la composition chimique, la taille des grains et la densité, garantissant un contrôle qualité rigoureux.
Produits de la gamme
Cibles métalliques, cibles céramiques, cibles en alliages binaires, cibles en alliages multi-composants, cibles en alliages à haute entropie, matériaux d’évaporation métalliques de haute pureté, granulés composés, billettes de cible de haute pureté et poudres pulvérisables destinées aux applications de cibles.
Applications des produits
Adapté aux procédés de pulvérisation cathodique RF : films à changement de phase pour fenêtres intelligentes
Procédés PLD : dispositifs de commutation optique ultra-rapides
Procédés de dépôt par faisceau d’ions : revêtements infrarouges furtifs
Procédés précurseurs ALD : dispositifs de stockage tridimensionnels