Reinheit: 99,99%
Gängige Spezifikationen: Quadratische Targets, runde Targets. Kann gemäß Kundenanforderungen in verschiedene Größen verarbeitet werden.

Vorteile und Merkmale des Produkts

Hohe Reinheit, niedriger Verunreinigungsgehalt, stabile Zusammensetzung, feine Korngröße, glatte Oberfläche, gleichmäßige Sputteroberfläche.

Unser Unternehmen entwickelt eigenständig neue Produktionsanlagen für hochreine Targets und setzt dabei SPS-Sintertechnologie sowie Vakuum-Schmelztechnologie ein. Derzeit befinden wir uns in der Massenproduktion mit kurzen Lieferzeiten und bauen unsere Kapazitäten kontinuierlich aus. Die von uns hergestellten hochreinen Kobalt-Targets verfügen über einen bedeutenden Marktanteil und eine stabile Kundenbasis.

Serienprodukte

Hochreine Kobaltbarren, hochreine Kobaltstäbe, Jinchuan-Kobaltplatten, elektrolytisches Kobalt, Kobalt-Targets, Kobaltbleche, Kobaltstreifen, Kobaltfolie, Kobaltdraht, Kobaltpellets, Kobaltgranulate, Kobaltpulver, Kobaltlegierungspulver, kugelförmiges Kobaltpulver usw.

Anwendungsbereiche des Produkts

Halbleiterfertigung: Wird bei Prozessen wie dem Sputter-Beschichten während der Chip-Herstellung eingesetzt. Beispielsweise können beim 4-nm-Prozess des NVIDIA-AI-Chips GB200, hergestellt von TSMC, 12-Zoll‑hochreine Kobalt-Targets zur Verdrahtung zwischen den Transistoren verwendet werden.
Dünnschichtabscheidung: Durch Techniken wie die physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) werden Kobalt-Dünnschichten auf verschiedenen Substraten abgeschieden, um ihnen spezifische Eigenschaften wie Verschleißfestigkeit, Korrosionsbeständigkeit, Leitfähigkeit und Magnetismus zu verleihen.
Forschungsbereich: Wird in Forschungsgebieten wie der Materialwissenschaft eingesetzt.