Zusammensetzungsverhältnis: Ti95V5, Ti80V20, Ti60V40; beliebig anpassbar
Gängige Spezifikationen: Φ≥20mm, 50–100mm, >100mm; Dicke 2–10mm; Toleranz ±0,1mm; flexible Abmessungen, individuell anpassbar
<b:Theoretische Dichte und Farbe: ≥98%; silbergrauer metallischer Glanz, bei höherem V-Gehalt dunkleres Grau
Vorteile des Produkts und des Unternehmens
Hohe Reinheit, hohe Dichte, feinkörnige Mikrostruktur, geringe Porosität, gleichmäßiges Sputtern, flexible Abmessungen, anpassbare Zusammensetzungen, strenge Qualitätskontrolle, schnelle Lieferung. Die Titan-Vanadium-Legierung ist die einzige Titanlegierung, die gleichzeitig Superplastizität, niedrigen Elastizitätsmodul und hohe Festigkeit aufweist, wodurch sie in Bereichen wie der Festkörper-Wasserstoffspeicherung und hochwertigen medizinischen Geräten zu einem unersetzlichen Werkstoff wird. Sie eignet sich besonders für fortschrittliche Beschichtungsanwendungen, die eine synergistische Optimierung mehrerer Eigenschaften erfordern.
Wir verfügen über einen entscheidenden Vorteil bei der Herstellung von Keramiktarget, Refraktärmetalltarget sowie Mehrkomponenten-Metalltarget. Mithilfe der SPS-Technologie (Spark Plasma Sintering) erreichen wir Reinheitsgrade bis zu 5N mit kontrollierter Kornstruktur, flexiblen Abmessungen und schneller Lieferung – entsprechend den strengen Anforderungen der wissenschaftlichen Forschung, experimentellen Studien sowie der Fertigung hochwertiger Halbleiterchips. Zudem bieten wir Testdienste für Targetmaterialien an und liefern Ergebnisse innerhalb von 7–15 Tagen, um die Produktiteration und Leistungsvalidierung unserer Kunden zu beschleunigen und die globale Targetmaterialindustrie nachhaltig zu stärken.
Mittels weltweit führender Elektronenstrahl-Schmelzverfahren (EB) und Vakuum-Arc-Umschmelzverfahren (VAR) erreichen wir eine präzise Reinigung hochschmelzender Metalle und unterstützen die kundenspezifische Entwicklung ultragroßer Target-Barren (Einzelgewicht: 500 kg–2 t) mit Reinheitsgraden von 99,99% bis 99,999%.
Unser Prüfzentrum ist mit modernsten Analysegeräten ausgestattet, darunter ein Hitachi-Rasterelektronenmikroskop und ICP-Spektrometer, sodass über 20 Parameter wie Materialzusammensetzung, Korngröße und Dichte während des gesamten Prozesses überwacht werden können, was eine strenge Qualitätskontrolle gewährleistet.
Serienprodukte
Metalltargets, Keramiktargets, binäre Legierungstargets, ternäre Legierungstargets, Mehrkomponenten-Legierungstargets, Hochentropie-Legierungstargets, hochreine Metallverdampfungsmaterialien, Compound-Granulate, hochreine Targetrohlinge sowie Sprühpulver für Targetanwendungen.
Anwendungsbereiche
Geeignete Verfahren: Magnetron-Sputtern (DC/HiPIMS), reaktives Sputtern, Multi-Arc-Ionenplattierung
Energiesektor: Festkörper-Wasserstoffspeicherbehälter, Bipolarplatten für Brennstoffzellen
Biomedizinische Anwendungen: Orthopädische Implantate, kardiovaskuläre Stents
Werkzeugbeschichtungen: Oberflächenverstärkung von Zahnrädern
Intelligente Geräte: Formgedächtnis-Dünnschichten
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