Zusammensetzungsverhältnis: V-20Cr, V-50Cr; beliebig anpassbar

Gängige Spezifikationen: Φ≥20mm, 50–100mm, >100mm; Dicke 2–10mm; Toleranz ±0,1mm; flexible Abmessungen, individuell anpassbar

<b:Theoretische Dichte und Farbe: ≥98%; silbergrauer metallischer Glanz, bei höherem Chromgehalt dunklerer Ton

Vorteile des Produkts und des Unternehmens
Hohe Reinheit, hohe Dichte, feinkörnige Mikrostruktur, geringe Porosität, gleichmäßiges Sputtern, flexible Abmessungen, anpassbare Zusammensetzungen, strenge Qualitätskontrolle, schnelle Lieferung. Vanadium-Chrom-Legierungstargets nehmen aufgrund ihrer wesentlichen Eigenschaften – “Hochtemperaturbeständigkeit, Korrosionsbeständigkeit und hohe Härte” – eine bedeutende Stellung in der Luft- und Raumfahrt, der Kernenergie sowie der Präzisionsfertigung ein. Sie vereinen die Leichtigkeit von Vanadium mit der Oxidationsbeständigkeit von Chrom und eignen sich daher besonders für Hochtemperatur- und korrosive Umgebungen. Zudem zeigen sie großes Potenzial in Anwendungen der neuen Energietechnologie (z. B. Schmelzsalzreaktoren) sowie in der Halbleiterverpackung.

Wir verfügen über einen entscheidenden Vorteil bei der Herstellung von Keramiktarget, refraktären Metalltarget und Mehrkomponenten-Metalltarget. Mithilfe der SPS‑Technologie (Spark Plasma Sintering) erreichen wir Reinheitsgrade bis zu 5N, kontrollierte Kornstruktur, flexible Abmessungen und schnelle Lieferung – entsprechend den strengen Anforderungen der wissenschaftlichen Forschung, experimentellen Studien sowie der hochwertigen Halbleiterchipfertigung. Darüber hinaus bieten wir Testdienste für Targetmaterialien an und liefern Ergebnisse innerhalb von 7–15 Tagen, um die Produktiteration und Leistungsvalidierung unserer Kunden zu beschleunigen und die globale Targetmaterialindustrie nachhaltig zu stärken.

Mittels weltweit führender Elektronenstrahl-Schmelzverfahren (EB) und Vakuum-Arc-Umschmelzverfahren (VAR) ermöglichen wir eine präzise Reinigung hochschmelzender Metalle und unterstützen die kundenspezifische Entwicklung ultragroßer Target-Barren (Einzelgewicht: 500 kg–2 t) mit Reinheitsgraden von 99,99% bis 99,999%.

Unser Prüfzentrum ist mit modernsten Analysegeräten wie einem Hitachi-Rasterelektronenmikroskop und ICP‑Spektrometern ausgestattet, sodass über 20 Parameter – darunter Materialzusammensetzung, Korngröße und Dichte – während des gesamten Prozesses überwacht werden können, was eine strenge Qualitätskontrolle gewährleistet.

Serielle Produkte
Metalltargets, Keramiktargets, binäre Legierungstargets, ternäre Legierungstargets, Mehrkomponenten‑Legierungstargets, High‑Entropy‑Legierungstargets, hochreine Metallverdampfungsmaterialien, Compound‑Granulate, hochreine Targetrohlinge sowie Sprühpulver für Targetanwendungen.

Anwendungsbereiche
Geeignete Verfahren: Magnetron‑Sputtern (DC/RF), Elektronenstrahlverdampfung, Arc‑Ion‑Plating

Hochtemperaturschutzbeschichtungen: Flugzeugtriebwerke (Turbinenschaufeln, Innenwandbeschichtungen der Brennkammer); Kernreaktoren (Brennstoffhüllenschichtbeschichtungen)

Korrosionsschutzbeschichtungen: Chemische Anlagen (Reaktorgefäße, Ventilinnenauskleidungen); Schiffbau (Korrosionsschutzbeschichtungen für Schiffskomponenten)

<p-Verschleißschutzbeschichtungen: Schneidwerkzeuge (Beschichtung von Hartmetallbohrern mit V‑30Cr, Verlängerung der Lebensdauer um das 2–3‑fache); Mechanische Lager (Beschichtungen für hochbelastete Komponenten)

<p-Funktionsdünnschichten: Halbleiter‑Diffusionsbarriereschichten (hemmen atomare Migration in Kupferverbindungen)

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