Pureté : Zr+Hf ≥ 99,9%, 99,95%, 99,99%
Spécifications : Φ ≥ 20 mm, 50–100 mm, > 100 mm ; T : 2–10 mm ; Tolérance : ±0,1 mm ; Taille flexible et personnalisable.
Taille des grains : ≤ 45 μm
Avantages du produit et de l’entreprise
Fabriqué par fusion sous vide et procédé SPS (frittage par plasma à étincelle), garantissant une pureté élevée (teneur en zirconium inférieure à 0,5%, pouvant atteindre 0,2%). Des rapports GDMS sont fournis à titre de support. Le produit se caractérise par une densité élevée, une structure granulaire fine et une surface de pulvérisation uniforme.
Nos produits offrent des dimensions flexibles et une livraison rapide, répondant aux exigences strictes des expériences de recherche scientifique ainsi qu’à la fabrication de puces semi-conductrices haut de gamme. Nous proposons également des services d’essai sur les cibles, assurant une livraison rapide en 7 à 15 jours afin d’accélérer l’itération des produits clients et la validation de leurs performances, renforçant ainsi continuellement le secteur mondial des matériaux cibles.
Notre centre d’essais est équipé d’instruments de test avancés tels qu’un microscope électronique à balayage Hitachi (Japon) avec un grossissement de 50 000x et un spectromètre ICP. Nous mettons en œuvre une surveillance complète de plus de 20 indicateurs clés, incluant la composition des matériaux, la taille des grains et la densité, afin d’assurer un contrôle qualité rigoureux.
Produits de la gamme
Notre entreprise s’est toujours concentrée sur la R&D et la production de produits de la série hafnium. Notre volume de ventes représente environ un tiers du total national. Nous fournissons des matières premières ainsi que des services de traitement sur mesure à de nombreuses entreprises. La gamme comprend principalement : hafnium cristallin, lingot d’hafnium haute pureté, barre d’hafnium, plaque d’hafnium, bande d’hafnium, feuille d’hafnium, fil d’hafnium, granulés d’hafnium, cible d’hafnium, alliage d’hafnium, poudre d’hafnium, etc.
En outre : cibles métalliques, cibles céramiques, cibles en alliages à forte entropie, cibles en alliages multi-composants, matériaux d’évaporation métalliques de haute pureté, particules de fluorure, particules d’oxyde, particules de nitrure, particules de carbure, poudres de pulvérisation pour cibles, ébauches de cibles, etc.
Applications des produits
Domaine des semi-conducteurs : Les cibles d’hafnium sont utilisées dans les procédés de dépôt physique en phase vapeur par faisceau d’électrons (EBPVD) et de dépôt physique en phase vapeur (PVD) pour fabriquer des composants tels que des électrodes et des transistors dans les appareils électroniques. Elles présentent des avantages tels que la résistance aux hautes températures, une forte résistance à la corrosion, une qualité de film pure et des performances stables dans des conditions de température élevée.
Domaine de l’optoélectronique : Les cibles d’hafnium servent à produire des couches minces optiques, comme des miroirs et des lentilles. Elles offrent une épaisseur de film uniforme et d’excellentes propriétés optiques.
Domaine aérospatial : Les cibles d’hafnium sont employées dans la fabrication de composants moteurs afin d’améliorer la dureté de surface et la durée de vie. Elles sont également utilisées pour produire des superalliages et des aubes de turbines, entre autres applications.