Purezza: Zr+Hf ≥ 99,9%, 99,95%, 99,99%
Specifiche: Φ ≥ 20 mm, 50–100 mm, > 100 mm; T: 2–10 mm; Tolleranza: ±0,1 mm; Dimensioni flessibili e personalizzabili.
Granulometria: ≤ 45 μm
Vantaggi del prodotto e dell’azienda
Prodotto mediante fusione sottovuoto e processi SPS (Sinterizzazione a Plasma Spark), garantendo elevata purezza (contenuto di zirconio inferiore a 0,5%, con possibilità di raggiungere valori fino a 0,2%). Vengono forniti report GDMS come supporto. Il prodotto presenta alta densità, microstruttura fine e una superficie di sputtering uniforme.
I nostri prodotti offrono dimensioni flessibili e tempi di consegna rapidi, soddisfacendo i rigorosi requisiti degli esperimenti di ricerca scientifica e della produzione avanzata di chip semiconduttori. Forniamo inoltre servizi di collaudo dei target, assicurando consegne rapide entro 7–15 giorni per accelerare l’iterazione dei prodotti e la validazione delle prestazioni, contribuendo costantemente all’evoluzione globale del settore dei materiali target.
Il nostro centro di collaudo è dotato di strumenti avanzati, quali un microscopio elettronico a scansione Hitachi (Giappone) con ingrandimento fino a 50.000x e uno spettrometro ICP. Effettuiamo un monitoraggio completo su oltre 20 indicatori chiave, tra cui composizione del materiale, granulometria e densità, per garantire un controllo qualità rigoroso.
Prodotti della serie
La nostra azienda si concentra da anni sulla ricerca, sviluppo e produzione di prodotti della serie all’afnio. Il volume delle vendite rappresenta circa un terzo del totale nazionale. Forniamo materie prime e servizi di lavorazione su misura a numerose imprese. La nostra linea comprende principalmente: Afnio cristallino, Lingotto di afnio ad alta purezza, Barra di afnio, Piastra di afnio, Nastro di afnio, Lamiera di afnio, Filo di afnio, Granulato di afnio, Target di afnio, Lega di afnio, Polvere di afnio, ecc.
Inoltre: Target metallici, Target ceramici, Target in leghe ad alta entropia, Target in leghe multicomponente, Materiali per evaporazione metallica ad alta purezza, Particelle di fluoruro, Particelle di ossido, Particelle di nitruro, Particelle di carburo, Polveri spray per target, Blank di target, ecc.
Applicazioni dei prodotti
Settore dei semiconduttori: I target di afnio sono impiegati nei processi di deposizione fisica da vapore a fascio elettronico (EBPVD) e di deposizione fisica da vapore (PVD) per la fabbricazione di componenti quali elettrodi e transistor nei dispositivi elettronici. Vantaggi: resistenza alle alte temperature, elevata resistenza alla corrosione, qualità del film pura e prestazioni stabili anche in condizioni di temperatura elevata.
Settore dell’optoelettronica: I target di afnio sono utilizzati per la produzione di film sottili ottici, come specchi e lenti. Offrono uno spessore uniforme del film e ottime proprietà ottiche.
Settore aerospaziale: I target di afnio sono impiegati nella fabbricazione di componenti motore per migliorare la durezza superficiale e la durata di servizio. Sono inoltre utilizzati nella produzione di superleghe e pale di turbina, tra le altre applicazioni.